Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
三井 光; 清水 雄一
Journal of Polymer Science; Polymer Chemistry Edition, 17(9), p.2805 - 2813, 1979/00
ポリエチレンの線分解における水素およびトランスビニレン基(t-V)の生成反応について、速度論の観点から研究した。照射は、真空中、30~100Cの温度範囲で行った。線量率は6.3510rad/hrであった。水素およびt-Vの生成速度は、いずれもそれぞれの濃度に関してゼロ次の生成反応および一次の消失反応をかていして誘導した速度式によって表すことができる。水素の生成反応の見かけの速度定数は、照射温度の上昇とともに幾らか増加し、0.6kcal/molの活性化エネルギーを与える。一方、水素の消失反応、ならびにt-Vの生成および消失反応の見かけの速度定数は、照射温度に無関係にほぼ一定である。Charlesby-Pinnerの式を用いてゲル分率を解析して得られた橋かけおよび主鎖切断反応のG値の活性化エネルギーは、いずれも1.5kcal/molであった。以上の結果に基づいて、線によって固体ポリエチレン中に誘起される化学反応について考察した。
三井 光; 細井 文雄; 後川 正裕*
J.Appl.Polym.Sci., 19(2), p.361 - 369, 1975/02
被引用回数:9数平均分子量(Mn)1500~114000の各種ポリエチレンに眞空中、30Cで線を照射し、ゲル分率を測定した。このゲル分率をCharlesby-Pinnerの式を用いて解析し、低密度ポリエチレンについて、次の関係式を得た。q=1.49 10 〔C=C〕.17 p=0.95 10 〔C=C〕.17 rg=1.38 10Mn 〔C=C〕.17 ここに、qおよびpは単位線量(Mrad)照射したときのモノマー単位あたりの橋かけおよび主鎖切断の確率、rgはゲル化線量(Mrad)、〔C=C〕は末端ビニル基およびビニリデン基の初期含量の合計(mol/g-PE)を表わす。これらの結果から、室温、眞空中におけるポリエチレンの線橋かけ反応において、末端ビニル基およびビニリデン基が重要な役割を果たすと結論した。
三井 光; 細井 文雄; 鍵谷 勤*
Polym.J., 6(1), p.20 - 26, 1974/01
被引用回数:14ポリエチレンの橋かけ反応を、絶対圧力3kg/cmのアセチレンの存在下、1.110rad/hrの線量率の線を用いて、温度30~200Cの範囲で行った。ゲル分率は、温度の上昇とともに増加し、105C付近で最高値に達し、その後著しく減少して150C以上でほぼ一定値になる。ポリエチレンの融点以下の温度では、ゲルの生成量は真空中照射の場合と比較して、アセチレンの存在下では著しく大きい。ポリエチレンの重量は、線量の増加とともにほぼ直線的に増加し、その増加の割合は、150および200Cで低下する。アセチレンの存在における特徴的な構造変化は末端ビニル基の生成であり、その生成量は線量とともにほぼ直線的に増加し、生成速度は温度とともに増加する。アセチレンの存在において照射した場合の水素およびトランスビニレン基の生成量は、真空中照射の場合とほぼ一致する。以上の結果に基づいて、本橋かけ反応におけるアセチレンの作用機構について考察する。
岡本 次郎; 伊藤 政幸; 松田 修; 鈴木 伸武
JAERI-M 5422, 15 Pages, 1973/10
放射線橋かけ反応で得られたテトラフルオルエチレン-プロピレン・エラストマーの高温における劣化機構を明らかにするため、化学応力緩和測定を行った。その結果、切断反応は優先的に高分子主鎖で起っていること、このエラストマーの劣化速度は、真空中照射エラストマーの方が空気中エラストマーに比べて若干大きいこと、などを明らかにした。また不連続応力緩和測定から真空中橋かけエラストマーの熱橋かけ密度はほぼ一定に保たれるが空気中橋かけエラストマーでは初期橋かけ密度により変化することが明らかになった。